含铟靶粉主要来源于电子、光电、半导体等行业生产过程中更换或损耗的溅射靶材。这些靶材通常由金属铟或其合金制成，在使用后形成粉末状或碎屑状废弃物料。废靶粉中铟的含量依据不同生产工艺和应用领域存在差异，但其基本形态为灰黑色细粉，具有较高的化学活性，需妥善保存以避免氧化或污染。
ITO靶材回收是一个专业且复杂的过程，通常包括以下几个步骤： 首先是收集和分类。不同来源的ITO废料需要按照其形态和成分进行分类，这直接影响后续的处理方式和回收效率。来自生产过程的边角料与使用后的废旧靶材在处理上会有所区别。 接下来是预处理阶段。这一环节包括去除废料表面的污染物、破碎和研磨等步骤，目的是使物料达到适合化学处理的粒度和纯度要求。预处理的质量直接关系到后续金属回收的效率和纯度。 然后是化学处理过程。通过酸溶等方法将ITO废料中的铟和锡等金属转入溶液，再利用沉淀、萃取或电解等分离技术，将不同的金属成分分离开来。这一步骤技术要求较高，需要控制反应条件以确保金属回收率和产品纯度。 是精炼和产品制备。回收得到的金属经过进一步提纯后，可以重新用于生产新的ITO靶材或其他含铟产品，完成资源的循环利用。
未来，随着电子产品的更新换代和新材料的出现，ITO靶材回收技术也需要不断创新和适应。开发更、更环保的回收工艺，提高自动化水平，加强全过程的质量控制，都是行业发展的重点方向。
铟靶材（ITO粉）主要由高纯度的铟和锡元素组成，通常是通过特定的制备工艺将两者混合并制成粉末状。这种粉末在电子行业中具有广泛的应用，尤其是在制造触摸屏、液晶显示器和平板电脑等电子产品的透明导电膜时发挥着关键作用。ITO粉末可以通过溅射、蒸发等工艺涂抹在玻璃或塑料基材上，形成一层透明且导电的薄膜，从而实现触摸和显示功能。