低信号损耗:利用银等低电阻率金属作为镀层材料,在高频趋肤效应下,降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下,插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。
表面处理:根据应用需求,选择合适的表面处理工艺,如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银,再通过干膜掩膜保护,对关键区域进行选择性电镀金。
后处理:包括清洗、烘干、防氧化处理等,如在沉银层表面涂覆一层有机防氧化剂,以延长其储存寿命。
工艺适配相关故障
线路桥连 / 短路:超细线路(≤10μm 线宽)间出现镀层粘连,多因光刻胶显影不彻底、电镀时金属离子过度沉积,或镀液整平性差。
盲孔 / 埋孔填充不良:孔内出现空洞、凹陷,影响层间导通和散热。成因是镀液流动性不足、电流密度未针对深宽比优化,或添加剂中整平剂含量不足。
基材损伤:特殊基材(如 PTFE)出现翘曲、开裂,多因电镀温度过高(超过基材耐热极限),或前处理化学药剂腐蚀基材表面。
基材预处理:奠定结合与信号基础
先进行除油脱脂,用碱性或中性清洗剂去除基材表面油污、指纹,避免影响镀层附着力。
针对 PTFE、罗杰斯等特殊基材,需额外做等离子体活化 / 化学粗化,提升表面活性与粗糙度。
通过微蚀 + 水洗,去除表面氧化层,同时形成均匀微观粗化面,增强后续种子层结合力。

